痕量氣體分析儀PG6EPD

痕量氣體分析儀概述：

越來越多的工業(yè)應(yīng)用需要超高純度的氣體時(shí)，擁有一個(gè)交鑰匙的氣體質(zhì)量認(rèn)證解決方案使您處于優(yōu)勢(shì)地位。PG6機(jī)架型過程氣相色譜儀加上增強(qiáng)型等離子體放電（Epd）傳感技術(shù)、高質(zhì)量的部件、信號(hào)處理和wu與倫比的分析性能，這種氣相色譜解決方案是該領(lǐng)域的一次飛躍。擁有最小的檢出限，這種尖duan的解決方案將使您每次都能生成最準(zhǔn)確的質(zhì)量證書

測(cè)量的雜質(zhì)：

H2, O2, N2, CH4, CO, CO2, Ar, Ne

特點(diǎn)：

1、基于Epd技術(shù)，低至＜10 ppb的LOD (使用eLOD時(shí)＜5 ppb)

2、一臺(tái)儀器適用于所有基質(zhì)氣體。

3、行業(yè)中最少的載氣消耗量；

4、提供多種機(jī)型供選擇：G51臺(tái)式、G60臺(tái)式、PG6機(jī)架式便攜/在線、PG20便攜。

主要規(guī)格：

1、測(cè)量范圍：0-10ppm或100ppm（其它范圍可供選擇）

2、檢出限濃度：＜10 ppb（He）、可低至ppt級(jí)別；

3、基質(zhì)氣體: H2, O2, N2, Ar, He, Air, CH4, CO, CO2；

4、載氣：氦氣（He）/氮?dú)猓∟2）/氬氣（Ar）。

增強(qiáng)型等離子體放電（EPD）檢測(cè)器介紹：

在EPD技術(shù)的核心，一個(gè)高能量的等離子體源被用來電離分子。一個(gè)EPD穩(wěn)定的介質(zhì)阻擋放電（DBD）將放電電極與電離的等離子體隔離，消除了濺射、池體內(nèi)壁涂層和分析物干擾，帶來的是無可超越的性能。

放電池體可選金屬或陶瓷材質(zhì)。

獨(dú)te的復(fù)合電極，可承受高溫、高壓和亞大氣層壓力。

等離子體穩(wěn)定和電子注入電級(jí)。